Victory Process 2D & 3D 版图驱动仿真器

TCAD工艺仿真对于开发新技术以及维护现有半导体工艺至关重要。制造过程的虚拟化帮助企业实现了半导体工艺“数字孪生”，工程师可以更好地理解工艺中的变化，优化器件性能，提高生产效率，同时缩短研发周期和制造周期。

优势

• 支持优化现有工艺，并提供可预测的缩放行为。

• 提高对新技术挑战的理解。

• 用仿真代替实验，降低掩模和原型制造等成本。

• 对设计公司而言，通过创建基于PDK的仿真工艺，缩短产品的上市时间。

典型应用

• 硅基: FinFET, FDSOI, Bulk CMOS

• 显示技术: TFT, LED, OLED

• 功率和射频技术: Silicon BiCMOS & BCD, SiC, GaN

• 光电子和硅光: CIS, Solar Cell, Laser, Waveguides, Modulators